上海微电子推出新一代先进封装光刻机：套刻精度提升至≤100nm

据上海微电子装备集团官方消息，9月18日，上微举行新产品发布会，宣布推出SSB520型新一代大视场高分辨率先进封装光刻机。

此次推出的新品光刻机主要应用于高密度异构集成领域，具有高分辨率、高套刻精度和超大曝光视场等特点。

并且可以帮助晶圆级先进封装企业实现多芯片高密度互连封装技术的应用，满足异构集成超大芯片封装尺寸的应用需求。

同时将助力封装测试厂商提升工艺水平、开拓新的工艺，在封装测试领域共同为中国集成电路产业的发展做出更多的贡献。

官方表示，目前，上微已与多家客户达成新一代先进封装光刻机销售协议，首台将于年内交付。

从上微电子官网了解到，新一代封装光刻机品投影物镜系统全面升级，可满足0.8μm分辨率光刻工艺需求，极限分辨率可达0.6μm;通过升级运动、量测和控制系统，套刻精度提升至≤100nm，并能保持长期稳定性。

此外，曝光视场可提供53mm×66mm(4倍IC前道标准视场尺寸)和60mm×60mm两种配置，可满足异构集成超大芯片封装尺寸的应用需求。

公开资料显示，上海微电子装备集团成立于2002年，主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发、生产、销售与服务，公司产品可广泛应用于IC制造与先进封装、MEMS、TSV/3D、TFT-OLED等制造领域。